光聲光譜痕量光氣分析儀

光聲光譜痕量光氣分析儀

概述

光聲光譜痕量光氣分析儀DKG ONE PH分析儀是基于超靈敏懸臂梁增強光聲光譜探測技術，結合量子級聯激光（QCL）光源，工作于光氣的中紅外基本光譜吸收峰。這兩者的結合提供了足夠的靈敏度可以幾乎無時延的探測最微小濃度的光氣泄漏，同時保證了超高水平的穩定性。重新校準的周期長達幾個月甚至幾年，大大減低了總體持有成本。

檢測需求

光氣是一種重要的有機中間體，在農藥、醫藥、工程塑料、聚氨酯材料內以及軍事上都有許多用途。光氣劇毒，是一種強刺激、窒息性氣體。吸入光氣引起肺水腫、肺炎等，具有致死危險。

優勢

l 準確、可靠和低維護成本的光氣泄漏控制

l 快速的響應時間，以捕捉濃度突然上升

l 獨立運行系統，內置氣體交換泵

l 無耗材或者化學試劑

l 短光程，單點校準也可達到不錯的動態量程

l 直接吸收測量，無漂移

l 校準間隔長（可達數年）

l 高選擇性，不受其他VOC的干擾

特點

l 高選擇性的監測痕量水平的光氣

l ppb級別檢測下限(LoD)

l 響應時間可設置，從10秒到幾分鐘

l 動態范圍寬，運行穩定

l 無耗材

l 低樣品量（幾ml）

l 內置氣體交換系統

l 重新校準間隔長（幾個月）

l 直觀的用戶界面

l 內置顯示屏，可數字式或者圖線式顯示結果

l 可通過局域網遠程操作